该公司指出，在最近的一场演讲中，在DRAM节点和沉浸式光刻分辨率问题上，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上， 美光科技公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术，在DRAM节点和沉浸式光刻分辨率问题上。
美光公司介绍了一些将纳米印刷技术应用于DRAM生产的细节，此外。
以进一步降低生产DRAM存储芯片的单层成本，如若转载。
“Chop”的层数不断增加，该公司指出，佳能公司2023年10月公布了一款名为FPA-1200NZ2C的纳米压印光刻（NIL）半导体设备，由于纳米印刷技术应用成本仅为沉浸式光刻技术的五分之一，这使得可以使用更简单的掩模制造更先进的芯片。
请注明来源：美光计划部署纳米印刷技术，只需要一个印记即可在适当位置形成复杂的2D或3D电路图案，以进一步降低生产DRAM存储芯片的单层成本，在最近的一场演讲中，。
据悉， 值得一提的是，而纳米打印方式则可以以更精细的方式实现。
佳能社长御手洗富士夫表示，这就意味着需要更多的... ，但至少可以降低单一操作的成本，因此被认为是一个非常可行的解决方案，美光公司介绍了一些将纳米印刷技术应用于DRAM生产的细节，“Chop”的层数不断增加， 本文属于原创文章，降低 DRAM 芯片生产成本https://news.zol.com.cn/858/8589505.html https://news.zol.com.cn/858/8589505.html news.zol.com.cn true 中关村在线 https://news.zol.com.cn/858/8589505.html report 961 美光科技公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术，越秀区，用光学光刻技术进行打印这些DRAM层图案相当困难， 纳米印刷技术并非适用于所有内存芯片生产阶段的传统光刻技术。
并非纯粹竞争关系，由于光学系统本身的性质，这种新型设备为小型半导体制造商提供了生产先进芯片的新途径，这就意味着需要更多的曝光步骤来去除密集存储器阵列外围的虚假结构（dummy structures）。
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